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渦流法電阻率測試儀在新材料的研發(fā)過程中的應(yīng)用
2026-01-30
2026-01-27
2025-08-28
2025-07-17
2025-06-26
產(chǎn)品中心/ products
氮化鎵電阻率方阻測試儀:氮化鎵是一種無機物,化學(xué)式GaN,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。此化合物結(jié)構(gòu)類似纖鋅礦,硬度很高。
碳化硅電阻率方阻測試儀:1、電阻率ρ不僅和導(dǎo)體的材料有關(guān),還和導(dǎo)體的溫度有關(guān)。在溫度變化不大的范圍內(nèi):幾乎所有金屬的電阻率隨溫度作線性變化,即ρ=ρ0(1+at)。式中t是攝氏溫度,ρ0是O℃時的電阻...
晶圓電阻率測試儀:電阻率(resistivity)是用來表示各種物質(zhì)電阻特性的物理量。在溫度一定的情況下,有公式R=ρl/S,其中ρ就是電阻率,l為材料的長度,S為面積??梢钥闯觯牧系碾娮璐笮∨c材料...
硅片電阻率測試儀:電阻率(resistivity)是用來表示各種物質(zhì)電阻特性的物理量。在溫度一定的情況下,有公式R=ρl/S,其中ρ就是電阻率,l為材料的長度,S為面積??梢钥闯觯牧系碾娮璐笮∨c材料...
非接觸式單點薄層電阻測量系統(tǒng)。該裝置包含一個渦流傳感器組,感應(yīng)弱電流到導(dǎo)電薄膜和材料。非接觸式薄膜方塊電阻測量儀試樣中的感應(yīng)電流產(chǎn)生與測量對象的片電阻相關(guān)的電磁場。電渦流技術(shù)不依賴于表面特征或形貌。此...
表面光電壓法(Surface Photovoltage Method,簡稱SPV法)是通過測量由于光照在半導(dǎo)體材料表面產(chǎn)生的表面電壓來獲得少數(shù)載流子擴散長度的方法。其原理是:用能量大于半導(dǎo)體材料禁帶寬...
無損方塊電阻測試儀包含一個渦流傳感器組,感應(yīng)弱電流到導(dǎo)電薄膜和材料。非接觸式薄膜方塊電阻測量儀試樣中的感應(yīng)電流產(chǎn)生與測量對象的片電阻相關(guān)的電磁場。電渦流技術(shù)不依賴于表面特征或形貌。此外,非接觸式單點方...
晶錠非接觸方阻測試儀:晶錠,也叫單晶硅棒,是一種純硅材料,在電子工業(yè)中被廣泛應(yīng)用。晶錠是一種長條狀的半導(dǎo)體材料,通常采用Czochralski法或發(fā)明家貝爾曼的Float-Zone法制備,直徑通常為2...
晶錠渦流法電阻率測試儀:電阻率是用來表示各種物質(zhì)電阻特性的物理量。某種物質(zhì)所制成的原件(常溫下20°C)的電阻與橫截面積的乘積與長度的比值叫做這種物質(zhì)的電阻率。電阻率與導(dǎo)體的長度、橫截面積等...
霍爾遷移率(Hall mobility)是指?Hall系數(shù)RH與?電導(dǎo)率σ的乘積,即│RH│σ,具有遷移率的量綱?。其表達式為μH =│RH│σ。?12定義和計算方法霍爾遷移率是Hall系數(shù)RH與電導(dǎo)...
??渦流法方阻測試儀的方阻是指一個正方形?薄膜導(dǎo)電材料邊到邊的電阻?,也稱為方塊電阻或?膜電阻。方阻是衡量薄膜狀導(dǎo)電材料(如?蒸發(fā)鋁膜、?導(dǎo)電漆膜、印制電路板銅箔膜等)厚度的一個參數(shù),其大小與材料的電...
是一款汞探針CV自動圖形掃描測量系統(tǒng)。它使用高頻CV測量分析系統(tǒng),可以對75mm、100mm、125mm、150mm、200mm(以及300mm)直徑的測試片進行測量和自動成圖。該系統(tǒng)采用汞探針設(shè)計,...
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